图书介绍

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太阳电池硅材料
  • 唐雅琴编著 著
  • 出版社: 北京:冶金工业出版社
  • ISBN:9787502481827
  • 出版时间:2019
  • 标注页数:178页
  • 文件大小:95MB
  • 文件页数:189页
  • 主题词:硅太阳能电池-材料-研究

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图书目录

1绪论1

1.1 能源与环境1

1.2 新能源1

1.3 太阳能3

1.4 太阳电池的研究和应用历史4

1.5 中国太阳电池的产业现状与未来5

2太阳能光电转换材料及物理基础9

2.1 半导体材料9

2.2 半导体中载流子的统计13

2.3 费米能级和载流子的统计13

2.3.1 费米分布函数13

2.3.2 费米能级14

2.4 本征半导体的载流子密度15

2.4.1 本征半导体(intrinsic)15

2.4.2 本征半导体的费米能级15

2.4.3 本征载流子密度ni16

2.5 PN结17

2.5.1 PN结的形成及其杂质分布17

2.5.2 PN结的空间电荷区与内建电场19

2.5.3 热平衡状态下的PN结能带结构19

2.5.4 PN结的伏安特性曲线20

2.5.5 偏置条件下的PN结21

2.5.6 理想PN结的伏安特性24

2.6 半导体材料的光吸收25

2.7 光生伏特效应26

2.7.1 PN结的光伏效应26

2.7.2 光照PN结的电流-电压方程26

3硅太阳电池的结构和制备29

3.1 硅太阳电池的结构和光电转换效率29

3.1.1 硅太阳电池的结构29

3.1.2 硅太阳电池的光电转换效率及测试31

3.2 晶硅太阳电池的基本生产工艺34

3.2.1 硅片检测34

3.2.2 表面制绒34

3.2.3 扩散制结35

3.2.4 去磷硅玻璃36

3.2.5 等离子刻蚀36

3.2.6 镀减反射膜36

3.2.7 丝网印刷37

3.2.8 快速烧结37

4硅及其化合物39

4.1 硅元素39

4.2 硅单质及其性质39

4.2.1 硅的物理性质39

4.2.2 硅的化学性质42

4.2.3 硅的分类及应用43

5硅的提纯45

5.1 太阳电池用硅材料45

5.2 化学提纯45

5.2.1 中间产物的合成45

5.2.2 中间产物的提纯45

5.2.3 中间产物的还原46

5.3 物理提纯46

5.3.1 湿法提纯(酸浸)46

5.3.2 分凝现象47

5.3.3 正常凝固48

5.3.4 定向凝固48

5.3.5 区域提纯50

5.3.6 杂质蒸发53

6单晶硅材料54

6.1 单晶硅的生长54

6.1.1 硅单晶的区熔生长(FZ)54

6.1.2 硅单晶的直拉生长(CZ)56

6.2 单晶硅中的缺陷和杂质63

6.2.1 单晶硅中的缺陷64

6.2.2 单晶硅中的杂质67

6.2.3 单晶硅中杂质和缺陷的控制与利用72

7多晶硅的制备及其缺陷和杂质74

7.1 冶金级硅的制备74

7.1.1 冶金级硅生产工艺74

7.1.2 工业硅熔炼过程反应机理75

7.2 高纯多晶硅制备方法77

7.2.1 三氯氢硅还原法(SIMENS法)77

7.2.2 硅烷热分解法79

7.2.3 太阳能级多晶硅制备新工艺及技术简介81

7.3 铸造多晶硅的制备及其杂质和缺陷82

7.3.1 铸造多晶硅的制备82

7.3.2 铸造多晶硅中的缺陷和杂质93

8硅材料加工107

8.1 单晶硅的加工108

8.1.1 硅抛光片的几何参数及一些参数定义109

8.1.2 割断112

8.1.3 滚圆和切方块113

8.1.4 切片113

8.1.5 倒角114

8.1.6 磨片114

8.1.7 化学腐蚀115

8.1.8 抛光115

8.1.9 包装和储存118

8.2 多晶硅的加工119

8.3 硅片腐蚀和抛光工艺的化学原理120

8.3.1 硅片腐蚀工艺的化学原理120

8.3.2 抛光工艺的化学原理121

8.4 硅片清洗及原理122

8.4.1 清洗的作用122

8.4.2 清洗的原理122

9硅薄膜材料125

9.1 非晶硅薄膜材料125

9.1.1 非晶硅薄膜的特征及基本性质126

9.1.2 非晶硅薄膜的制备127

9.1.3 非晶硅薄膜的缺陷及钝化130

9.2 多晶硅薄膜材料132

9.2.1 多晶硅薄膜的特征和基本性质132

9.2.2 多晶硅薄膜的制备133

9.2.3 多晶硅薄膜的晶界和缺陷138

10硅材料的测试与分析139

10.1 硅材料的电学参数测量139

10.1.1 导电型号的测量139

10.1.2 电阻率的测量141

10.1.3 少子寿命的测量144

10.1.4 霍尔系数的测定153

10.1.5 迁移率的测量155

10.2 硅材料物理化学性能的分析156

10.2.1 X射线分析156

10.2.2 光谱分析158

10.2.3 质谱与能谱分析163

10.3 硅晶体结构特性的检测165

10.3.1 表面机械损伤和硅单晶中应变的测量165

10.3.2 晶向的测定166

10.3.3 膜厚的测量167

参考文献169

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