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第一章 电子光学仪器与器件的基本部件1

§1-1 电子光学仪器与器件的概况及简要工作原理1

§1-2 电子枪4

1.2.1 单透镜系统电子枪4

1.2.2 双透镜系统电子枪5

§1-3 电子枪的发射系统5

1.3.1 发射系统的会聚作用5

1.3.2 交叉点半径7

1.3.3 交叉点截面上的电流密度分布8

1.3.4 电子束发射角10

1.3.5 截止电压12

1.3.6 调制特性15

1.3.7 阴极电流密度16

§1-4 主透镜与辅助透镜17

1.4.1 主透镜17

1.4.2 辅助透镜18

§1-5 显示用电子束管中电子枪的典型结构19

1.5.1 磁聚焦电子枪19

1.5.2 电聚焦电子枪19

§1-6 电偏转系统22

1.6.1 均匀电场偏转系统22

1.6.2 倾斜板偏转系统24

1.6.3 一次曲折板偏转系统25

1.6.4 弯曲偏转板系统26

1.6.5 径向偏转系统26

1.6.6 电偏转系统的偏转像差28

§1-7 磁偏转系统33

1.7.1 偏转磁场的分布33

1.7.2 磁场分布与线圈结构的关系35

1.7.3 均匀偏转磁场的获得37

1.7.4 均匀磁偏转系统37

1.7.5 磁偏转系统的像差39

1.8.1 对荧光屏的要求和屏的特性参量43

§1-8 荧光屏43

1.8.2 介质靶的二次发射特性和靶的平衡电位44

1.8.3 电子束轰击介质靶面时的电流连续原理46

第二章 显示用电子束管48

§2-1 示波管48

2.1.1 示波管的结构和原理48

2.1.2 偏转后加速50

2.1.3 偏转放大系统53

2.1.4 普通示波管用于高频条件下出现的问题54

§2-2 雷达定位管58

2.2.1 雷达定位原理58

2.2.2 几种典型的显示定位方式58

2.2.4 圆扫描补偿原理60

2.2.3 定位管的特点60

§2-3 黑白显像管61

2.3.1 电视传像原理61

2.3.2 黑白显像管的原理和结构62

2.3.3 晕光环和局外光的影响65

§2-4 彩色显像管67

2.4.1 三基色原理67

2.4.2 彩色电视基本原理69

2.4.3 彩色显像管的选色原理71

2.4.4 三枪三束圆孔荫罩彩色显像管74

2.4.5 自会聚彩色显像管86

§2-5 计算机显示用的电子束管95

2.5.1 偏转扫描方法96

2.5.2 多重偏转式CRT97

2.5.3 偏转补偿和动态聚焦98

2.5.4 CRT中电子束的束流选通100

2.5.5 飞点扫描管产生背景数据100

2.5.6 CRT单像管字符产生器101

第三章 储存管102

§3-1 储存管的一般原理和用途102

§3-2 网垒式储存管103

§3-3 直观式储存管105

§3-4 存图管（电子激发导电式储存管）108

4.2.1 典型结构和工作原理111

§4-2 单级像增强管111

第四章 变像管和像增强管111

§4-1 变像管和像增强管的应用111

4.2.2 像增强管的光放大系数112

4.2.3 像增强管中的宽电子束聚焦问题113

4.2.4 像增强管的特性参量和测试114

§4-3 串联式和级联式像增强管118

4.3.1 串联式像增强管118

4.3.2 级联式像增强管119

§4-4 微通道式像增强管121

4.4.1 结构特点和工作原理121

4.4.2 微通道管内的电子轨迹和电子增益122

4.5.1 倒像式微通道板像增强管123

§4-5 带有微通道板的像增强器123

4.5.2 像增强领域中的新进展——第三代薄片管125

第五章 摄像管127

§5-1 摄像管的一般工作原理127

5.1.1 摄像管的作用和分类127

5.1.2 光学图像转变为电信号的原理127

5.1.3 慢电子束扫描时靶的平衡电位与慢电子扫描摄像管电子光学特点…128

5.1.4 摄像管的原理性结构134

5.1.5 摄像管的特性参量137

§5-2 Sb2S3靶视像管142

5.2.2 视像管的工作原理143

5.2.1 Sb2S3靶视像管的典型结构143

5.2.3 视像管的特性参量146

§5-3 PbO靶视像管147

5.3.1 阻挡型光导靶的体电阻率和势垒高度147

5.3.2 PbO靶的靶面结构148

5.3.3 PbO靶视像管的特性参量149

§5-4 Si靶视像管151

5.4.1 靶面结构和Si靶管的工作原理151

5.4.2 硅靶视像管的特性参量152

5.5.1 微光电视的应用153

§5-5 微光摄像管153

5.5.2 微光摄像管在黑夜摄像的理论基础154

5.5.3 硅靶电子倍增摄像管（SEM管）156

5.5.4 二次电子导电摄像管（SEC管）157

§5-6 单管彩色摄像管160

5.6.1 单管彩色摄像管的理论基础160

5.6.2 单管彩色摄像管的结构和特性167

§5-7 摄像管的发展动向168

第六章 透射式电子显微镜（TEM）170

§6-1 光学显微镜分辨本领的理论极限170

§6-2 电子的波动性173

6.3.1 透射电镜与光学显微镜的对比175

6.3.2 透射电镜的简要工作原理和结构特点175

§6-3 透射式电子显微镜（TEM）175

§6-4 磁透镜177

6.4.1 磁透镜的分类及其性质177

6.4.2 强磁透镜的理论计算179

6.4.3 磁透镜的设计182

6.4.4 磁透镜的像差184

§6-5 透射式电子显微镜的照明系统187

6.5.1 电子枪的亮度187

6.5.2 电子枪191

6.5.3 聚光系统197

6.5.4 照明系统合轴199

§6-6 透射式电子显微镜的成像系统203

6.6.1 成像系统的主要组成部件204

6.6.2 成像系统工作原理206

§6-7 电子透镜的景深、焦深和轴上像散211

§6-8 透射式电子显微镜中像的形成和衬度机理214

6.8.1 单个原子对入射电子的散射作用214

6.8.2 振幅衬度215

6.8.3 衍射衬度216

6.8.4 相位衬度216

§6-9 透射式电子显微镜的分辨本领217

6.9.1 分辨本领217

6.9.2 电子衍射所决定的分辨本领218

6.9.3 理论分辨本领218

6.9.4 各种像差对分辨本领的影响219

第七章 扫描电子显微镜222

§7-1 扫描电子显微镜的简要工作原理222

§7-2 扫描电子显微镜中各种信息的产生224

§7-3 扫描电子显微镜的电子探针系统228

§7-4 扫描电子显微镜的偏转系统231

§7-5 二次电子探测器232

§7-6 电子探针系统的理论限制235

第八章 电子束技术和应用242

§8-1 电子束曝光242

8.1.1 电子束曝光技术的发展242

8.1.2 几种电子束曝光的方法244

8.1.3 对电子束曝光机的要求246

§8-2 电子束曝光机的结构和特点248

8.2.1 电子束曝光机的结构248

8.2.2 电子束的偏转与扫描250

8.2.3 电子光柱体的类型251

8.2.4 电子束对准系统254

8.2.5 利用电子束偏转自动对准图形254

8.2.6 对电子敏感的聚合物——电子抗蚀剂255

8.2.7 电子束曝光的限制256

§8-3 电子束曝光机的应用257

8.3.1 光掩模版的制造257

8.3.2 利用电子束曝光和离子束掺杂制造微波开关258

8.4.1 电子束加工的特点260

§8-4 电子束加工260

8.4.2 电子束加工机的特点261

8.4.3 电子束加工机的应用261

第九章 离子注入技术264

§9-1 离子注入技术及对离子注入机的要求264

9.1.1 离子注入技术简介264

9.1.2 离子注入技术的发展264

9.1.3 离子注入技术的特点264

9.1.4 对离子注入机的性能要求265

9.1.5 离子注入机的结构和类型267

9.2.1 离子源269

§9-2 离子注入机269

9.2.2 离子束的聚焦283

9.2.3 质量分析器306

9.2.4 离子注入机的真空系统和注入机的终端设备314

§9-3 离子注入技术在微电子学中的应用321

9.3.1 高频低噪声微波管322

9.3.2 用离子注入制备高电阻323

9.3.3 化合物半导体的离子注入324

9.3.4 用离子注入法制发光二极管325

9.3.5 离子注入技术在其他方面的应用325

§9-4 离子注入技术的发展327

参考文献329